マスク露光装置の世界市場、2032年には23億4,700万米ドル規模へ拡大予測

マスク露光装置の世界市場が成長へ
マスク露光装置の概要と技術動向
1. 市場のトレンドと推進要因
レポートの主な掲載内容
1. セグメンテーション
2. 主要企業
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マスク露光装置の世界市場が成長へ

株式会社マーケットリサーチセンターは、マスク露光装置の世界市場に関する調査レポート「Global Mask Exposure Equipment Market 2026-2032」を発表しました。このレポートによると、世界のマスク露光装置市場は2025年の14億5,400万米ドルから、2032年には23億4,700万米ドルへと拡大すると予測されています。2026年から2032年にかけての年平均成長率（CAGR）は7.0%と見込まれています。

マスク露光装置の概要と技術動向

マスク露光装置は、フォトマスク（レチクル）製造において中心的な役割を果たすパターン書き込み/露光ツールです。電子ビームレジストまたはフォトレジストが塗布されたマスクブランクを露光し、現像、エッチング、洗浄、検査といった工程を経て、ウェハーリソグラフィーで使用される生産用レチクルが作製されます。

本調査の対象となる主な装置ファミリーは以下の通りです。

電子ビーム – シングルビーム・マスクライター: 高電流密度、可変ビーム成形、高精度ステージ/フィールドスティッチングを活用するVSB（可変形状ビーム）が主流です。NuFlare社のEBMシリーズ（7nm+/5nmノード向けEBM-9500PLUSを含む）、JEOLのJBX電子ビームリソグラフィシステム、VistecのVSBプラットフォームなどが代表的です。
電子ビーム – マルチビーム・マスクライター（MBMW）: IMS Nanofabricationが主要なサプライヤーであり、2nm時代の要件に対応するため2023年にMBMW-301が発売されました。ノードの微細化とOPC/ILTのデータ密度増加に伴い露光時間が増大する中、生産性向上のための主要な動機となっています。
レーザービームマスクライター: 主に成熟ノードのマスクや、コスト効率に優れた高スループットのマスク生産、研究開発（R&D）や少量生産のマスク作製に使用されます。MycronicはSLXをコスト優位性を持つレーザーベースのマスクライターとして位置付けており、Heidelberg Instrumentsは成熟した半導体フォトマスク生産向けにULTRAを、ダイレクトライティングおよび少量生産のマスク作製向けにDWL 66+を提供しています。

市場のトレンドと推進要因

市場の主なトレンドと推進要因としては、EUVおよび先進ノードにおけるマスクの複雑化と露光時間の短縮圧力、成熟ノードにおける持続的な生産量とコストの制約、そして自動化、安定性、データスループットの継続的な向上が挙げられます。

レポートの主な掲載内容

本レポートは、マスク露光装置の世界市場に関する包括的な分析を提供しており、製品セグメンテーション、企業動向、収益、市場シェア、最新の開発動向、M&A活動などに関する主要なトレンドを明らかにしています。また、主要グローバル企業の戦略を分析し、各企業の市場における独自の立場を深く理解できるようにしています。

セグメンテーション

市場は以下のセグメンテーションで分析されています。

タイプ別:
- 電子ビーム – シングルビーム・マスクライター
- 電子ビーム – マルチビーム・マスクライター
- レーザービーム – マスクライター
用途別:
- 先端プロセス用マスク
- 成熟プロセス用マスク
- 科学研究および特殊プロセス
ウェーハサイズ別:
- 300mmマスク露光装置
- 200mmマスク露光装置
- その他
地域別:
- 南北アメリカ（米国、カナダ、メキシコ、ブラジルなど）
- アジア太平洋地域（中国、日本、韓国、東南アジア、インド、オーストラリアなど）
- 欧州（ドイツ、フランス、英国、イタリア、ロシアなど）
- 中東・アフリカ（エジプト、南アフリカ、イスラエル、トルコ、GCC諸国など）